干燥箱/烘箱產(chǎn)品及廠家
hmds涂膠機(jī)，智能型hmds涂膠機(jī)，hmds自動(dòng)涂膠機(jī)將hmds涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2025-06-16
智能型hmds涂膠機(jī)，自動(dòng)hmds涂膠鍍膜機(jī)也稱為hmds處理，是用于使晶片表面呈疏水性的處理。
更新時(shí)間:2025-06-16
箱式電阻爐，高溫馬弗爐為周期作業(yè)式電爐，可供工礦企業(yè)、科研等單位實(shí)驗(yàn)室作化學(xué)分析、物理測(cè)定和一般小型鋼件熱處理時(shí)加熱之用。
更新時(shí)間:2025-06-16
精密無(wú)氧化烘箱，無(wú)氧烤箱在工作時(shí)，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧化烘箱在工業(yè)中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時(shí)間:2025-06-16
js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下，達(dá)到真空狀態(tài)后開(kāi)始涂布工藝，涂布完成后烘箱內(nèi)部充入n2，達(dá)到常壓后方可開(kāi)門。
更新時(shí)間:2025-06-16
無(wú)氧烘箱，無(wú)氧烤箱氧濃度儀應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb、lcp固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升降溫環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求
更新時(shí)間:2025-06-16
真空熱風(fēng)烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質(zhì)固化，lcp材料熱處理、鍵合材料預(yù)處理，fowlp扇出封裝，ito膜/鋁/銅退火，pbo膠固化等特殊工藝。
更新時(shí)間:2025-06-16
有降溫功能真空烘箱，300度可降溫真空烤箱用于鍵合預(yù)處理，晶圓，芯片，電容，電池，封裝，光刻膠固化，pi固化等
更新時(shí)間:2025-06-16
程控真空干燥箱 可程式真空烘箱 真空烤箱在實(shí)驗(yàn)室、制藥、電子等行業(yè)，干燥工藝的效率與精度直接影響實(shí)驗(yàn)結(jié)果與產(chǎn)品質(zhì)量。
更新時(shí)間:2025-06-16
hmds預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2025-06-16
電子無(wú)塵烤箱，電子潔凈烘箱應(yīng)用于晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅芯片。在硅芯片上可加工制作成各種電路組件結(jié)構(gòu)，而成為有特定電性功能之ic產(chǎn)品。一般是芯片電路設(shè)計(jì)-晶圓的制造-晶圓的測(cè)試-晶圓的切割研磨-芯片的封裝-成品芯片的測(cè)試。在整個(gè)工藝中晶圓烘烤工藝也很重要，且需要多次烘烤。
更新時(shí)間:2025-06-16
精密烘箱，稀土永磁材料精密烘箱應(yīng)用于稀土永磁材料及其制品的生產(chǎn)過(guò)程中干燥、老化等工藝。烘箱整機(jī)為不銹鋼結(jié)構(gòu)，全部采用無(wú)塵材料。工作室內(nèi)溫度由溫控儀自動(dòng)控制，并有自動(dòng)恒溫及時(shí)間控制裝置，并附設(shè)有超溫自動(dòng)切斷加熱及報(bào)警更，控制可靠，使用安全。
更新時(shí)間:2025-06-16
js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下，達(dá)到真空狀態(tài)后開(kāi)始涂布工藝，涂布完成后烘箱內(nèi)部充入n2，達(dá)到常壓后方可開(kāi)門。
更新時(shí)間:2025-06-16
堅(jiān)膜烘箱，氮?dú)鈭?jiān)膜烘箱的作用是在一定的溫度下,對(duì)顯影后的襯底進(jìn)行烘焙。這將使光刻膠的表面在表面張力的作用下而圓滑化,并使光刻膠層中的缺陷因光刻膠表面的圓滑化而減少,并可借此修正光刻膠圖形的邊緣輪廓。
更新時(shí)間:2025-06-16
晶圓百級(jí)潔凈烤箱，可編程潔凈烘箱一種采用單面水平由后向前送風(fēng)熱風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)，風(fēng)源由循環(huán)馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)電熱器，將熱風(fēng)由風(fēng)道送至烤箱內(nèi)部，且將使用后空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱，省電節(jié)能溫度均勻性好，過(guò)濾效率99.99%，class 100的潔凈烘箱
更新時(shí)間:2025-06-16
潔凈充氮烘箱，無(wú)塵室充氮烤箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。充氮烤箱可滿足電子電器、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達(dá)350℃-400℃并且可加裝氮?dú)膺M(jìn)出口。
更新時(shí)間:2025-06-16
n2潔凈烘箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。烘箱整機(jī)為不銹鋼結(jié)構(gòu)，全部采用無(wú)塵材料。工作室內(nèi)溫度由溫控儀自動(dòng)控制，并有自動(dòng)恒溫及時(shí)間控制裝置，并附設(shè)有超溫自動(dòng)停電及報(bào)警電路，控制可靠，使用安全。
更新時(shí)間:2025-06-16
堅(jiān)膜無(wú)塵烤箱，半導(dǎo)體無(wú)塵烘箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過(guò)程中堅(jiān)膜工藝。也用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。
更新時(shí)間:2025-06-16
充氮真空烘箱，快速降溫真空烤箱用于鍵合材料的真空預(yù)處理 、bcb固化、ito膜退火，pi膠固化等工藝。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子產(chǎn)品、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè)，適用于工廠、高等院校、科研等場(chǎng)所。
更新時(shí)間:2025-06-16
六甲基二硅氮烷(hmds)表面處理設(shè)備的工藝是勻膠襯底“增附”處理。容積大。350*350*350/450*450*450
更新時(shí)間:2025-06-16
應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).
更新時(shí)間:2025-06-16
后曝光氮?dú)夂嫦，peb無(wú)塵烘箱所使用的高溫（100-130°c）會(huì)使光敏化合物擴(kuò)散，從而消除駐波波紋.百潔凈度無(wú)塵化，用于半導(dǎo)體，集成電路
更新時(shí)間:2025-06-16
潔凈氮?dú)鉄犸L(fēng)烘箱，精密充氮是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。烘箱整機(jī)為不銹鋼結(jié)構(gòu)，全部采用無(wú)塵材料，箱內(nèi)持續(xù)充氮，使烘箱工作室內(nèi)處于潔凈狀態(tài)。工作室內(nèi)溫度由溫控儀自動(dòng)控制，并有自動(dòng)恒溫及時(shí)間控制裝置，并附設(shè)有超溫自動(dòng)斷開(kāi)加熱及報(bào)警電路，控制可靠，使用安全。
更新時(shí)間:2025-06-16
真空固化烤箱，防氧化真空系統(tǒng)用于鍵合前鍵合材料的真空處理 、ito膜退火，pr膠排膠固化等工藝。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子產(chǎn)品、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè)，適用于工廠、高等院校、科研等場(chǎng)所。
更新時(shí)間:2025-06-16
高低溫沖擊烘箱、冷熱沖擊試驗(yàn)箱適用于電子、汽車配件、塑膠等行業(yè)，測(cè)試各種材料對(duì)高、低溫的反復(fù)沖擊能力。檢測(cè)產(chǎn)品于熱脹冷縮所產(chǎn)生的化學(xué)變化或物理傷害，確保產(chǎn)品品質(zhì)。
更新時(shí)間:2025-06-16
hmds涂膠烤箱，mes接口hmds涂布機(jī)的主要作用是對(duì)晶圓做表面處理，以增加光阻在晶圓表面的附著力。當(dāng)晶圓送到黃光區(qū)時(shí)，表面可能有含水層，高溫烘烤后去除水氣，同時(shí)經(jīng)過(guò)hmds制程改變晶圓表面從極性到非極性，將晶圓表面的表面能被調(diào)整到與光阻表面相當(dāng)?shù)某潭龋瑥亩构庾杩梢院芎玫母街诰A表面。
更新時(shí)間:2025-06-16
hmds熏蒸機(jī)，hmds熏蒸烤箱通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2025-06-16
熱風(fēng)真空烘箱，真空+鼓風(fēng)一體烘箱主要用于bcb固化、pi固化、其他光刻膠固化、lcp熱處理等工藝
更新時(shí)間:2025-06-16
抗粘劑氣相成底膜烘箱，抗粘劑氣相沉積系統(tǒng)主要用于納米壓印光刻（nil）應(yīng)用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠；以及功率半導(dǎo)體,led,mems,半導(dǎo)體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
更新時(shí)間:2025-06-16
大型真空烘箱，電熱真空干燥箱適用于各種產(chǎn)品或材料及電氣、儀器、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊、塑膠、機(jī)械、化工、食品、化學(xué)品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應(yīng)性試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-16
無(wú)塵烘箱，class 100潔凈烘箱，無(wú)塵高溫烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、led、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-16
堅(jiān)膜無(wú)塵烤箱，半導(dǎo)體無(wú)塵烘箱?用于高精度硅上薄膜電阻制造過(guò)程中堅(jiān)膜工藝。也用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。
更新時(shí)間:2025-06-16
pi亞胺化厭氧爐，pi真空厭氧烤箱用于光刻膠bcb，聚酰亞胺pi/cpi固化，lcp纖維熱處理，晶圓干燥烘烤等工藝，主要用于集成電路、化合物半導(dǎo)體、mems微機(jī)電、tft/lcd等半導(dǎo)體相關(guān)行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-06-16
hmds真空鍍膜機(jī)，光刻hmds鍍膜烤箱通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2025-06-16
三箱式百無(wú)塵烤箱，電子百潔凈烘箱采用彩色觸摸屏溫度控制器，內(nèi)置曲線記錄、查詢 pid自整定、高溫上限報(bào)警、 運(yùn)行方式：定值、程式 語(yǔ)言：中、英文
更新時(shí)間:2025-06-16
芯片烘箱，芯片固化烤箱是指封裝環(huán)氧的固化，一般環(huán)氧固化條件在135℃，1小時(shí)。模壓封裝一般在150℃，4分鐘。后固化是為了讓環(huán)氧充分固化，同時(shí)對(duì)led進(jìn)行熱老化。后固化對(duì)于提高環(huán)氧與支架(pcb)的粘接強(qiáng)度非常重要，一般條件為120℃，4小時(shí)。無(wú)氧化烘箱在工業(yè)中的用途：芯片固化，led芯片燒結(jié)，ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時(shí)間:2025-06-16
無(wú)氧烘箱，光刻膠固化烘箱用于精密電子元件、pi膠固化烘烤、bcb固化，光刻膠固化、lcp液晶聚合物熱處理、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，
更新時(shí)間:2025-06-16
無(wú)氧高溫烘箱，百級(jí)無(wú)氧烘箱主要應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求。應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).
更新時(shí)間:2025-06-16
加工半導(dǎo)體用烤箱， secs / gem無(wú)塵烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后固化、堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-16
隧道烘箱，流水線烘箱作用是將需要烘烤的產(chǎn)品在流水線上連續(xù)性進(jìn)行烘烤，以達(dá)到提高生產(chǎn)效率。
更新時(shí)間:2025-06-16
無(wú)塵烘箱，不銹鋼無(wú)塵烤箱用于ic生產(chǎn)中烘、后烘烤、堅(jiān)膜、裝片機(jī)后端烘烤、塑封封裝烘烤、光刻膠固化、治具干燥、薄膜烘烤、硅片干燥等工藝。
更新時(shí)間:2025-06-16
抽屜烘箱，抽拉層式烘箱用于半導(dǎo)體、電子行業(yè)、軌道交通、汽車零部件、航空航天，工礦企業(yè)、大院校、生物制藥、科研、醫(yī)療單位及各類實(shí)驗(yàn)室等作非易燃易爆物品及非揮發(fā)性物品的干燥、烘培、熔臘、滅菌之用。
更新時(shí)間:2025-06-16
hmds蒸鍍烤箱，可程式hmds機(jī)臺(tái)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料預(yù)處理及相關(guān)行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-06-16
真空熱風(fēng)烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質(zhì)固化，lcp材料熱處理、鍵合材料預(yù)處理，fowlp扇出封裝，ito膜/鋁/銅退火，pbo膠固化等特殊工藝。
更新時(shí)間:2025-06-16
烘箱，精密烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預(yù)處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-16
線性恒溫恒濕試驗(yàn)機(jī)，曲線溫濕度試驗(yàn)箱試驗(yàn)各種材料耐熱、耐寒、耐干、耐濕性能。適合電子、電器、通訊、儀表、車輛、塑膠制品、金屬、食品、化學(xué)、建材、醫(yī)療、航天等制品檢測(cè)質(zhì)量之用。
更新時(shí)間:2025-06-16
實(shí)驗(yàn)室hmds專用烘箱 小型hmds處理烤箱解決光刻膠附著力不足問(wèn)題,同時(shí)增強(qiáng)光刻圖形的完整性.
更新時(shí)間:2025-06-16
熱風(fēng)真空烘箱，真空+鼓風(fēng)一體烘箱主要用于bcb固化、pi固化、其他光刻膠固化、lcp熱處理等工藝
更新時(shí)間:2025-06-16
最新產(chǎn)品
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