其它產(chǎn)品及廠家
hmds預(yù)處理系統(tǒng)，晶圓hmds烤箱 在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。
更新時(shí)間:2025-06-12
蒸汽老化試驗(yàn)機(jī)，半導(dǎo)體蒸汽老化測(cè)試儀適用于電子連接器、半導(dǎo)體ic、晶體管、二極管、液晶lcd、芯片電阻電容、零組件產(chǎn)業(yè)電子零組件金屬接腳沾錫性試驗(yàn)前的老化加速壽命時(shí)間試驗(yàn);半導(dǎo)體、被動(dòng)組件、零件接腳氧化試驗(yàn)。
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真空無氧烘箱，高溫?zé)o氧真空烤箱用于pi膠、bcb膠固化，鍵合材料預(yù)處理，ito膜退火，pr膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、pcb板、半導(dǎo)體封裝、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。
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真空無氧烘箱，高溫?zé)o氧真空烤箱用于pi膠、bcb膠固化，鍵合材料預(yù)處理，ito膜退火，pr膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、pcb板、半導(dǎo)體封裝、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。
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晶圓烤箱，超潔凈烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧烤箱主要用于：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
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hmds烘箱，hmds預(yù)處理烘箱將hmds涂到樣品表面后，經(jīng)烘箱加溫可生成硅氧烷為主的化合物，將樣品表面由親水性變?yōu)槭杷裕耸杷阅軌蚝芎玫呐c光刻膠結(jié)合，增加了樣品表面與光刻膠的粘附作用。
更新時(shí)間:2025-06-12
無氧烤箱，厭氧烘箱廣泛用于航空、航天、石油、化工、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位做材料、零件、設(shè)備等的高溫潔凈和無氧干燥及老化試驗(yàn)。
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無氧烘箱，智能雙層無氧烘箱應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升溫環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、pcb板烘烤、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無氧化干燥烘烤工藝要求，
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led氣相成底膜處理系統(tǒng)，氣相成底膜真空烘箱目前在led芯片制造中用hmds成膜處理一般是在一個(gè)集脫水烘焙和氣相成膜兩種作用的真空腔中進(jìn)行,這種方法可以實(shí)現(xiàn)批量處理。待處理晶片放在真空腔中的熱板上,用氮?dú)庾鳛檩d氣將hmds蒸氣通入腔室中,達(dá)到預(yù)先設(shè)定的壓力對(duì)晶片進(jìn)行成膜處理,完畢后將腔室中的氣體抽空,然后通氮?dú)獾匠骸s-hmds預(yù)處理系統(tǒng)對(duì)預(yù)處理過程的工作溫度、工作真空度、處理時(shí)間、處理時(shí)
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抗粘劑蒸鍍機(jī)，抗粘層鍍膜機(jī)在基片與彈性支撐層之間還形成有抗黏層，抗黏層般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。
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pct高壓老化試驗(yàn)機(jī)，半導(dǎo)體高壓加速老化試驗(yàn)箱是利用加壓的飽和蒸汽對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行加速老化的設(shè)備，適用于電子，表面處理，磁性材料，ic，半導(dǎo)體，pcb，包裝材料等各個(gè)相關(guān)行業(yè)使用。
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全氟辛基三氯硅烷涂膠機(jī)，抗粘劑pfts真空烘箱主要用于納米壓印光刻（nil）應(yīng)用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠；以及功率半導(dǎo)體,led,mems,半導(dǎo)體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
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勻膠機(jī)，可程式勻膠機(jī)用于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ito導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動(dòng)迅速等優(yōu)點(diǎn)，并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。
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在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻 的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥 基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì) 侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕 容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。
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智能型無塵無氧烘箱、厭氧潔凈烘箱應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb 膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb 板、ito 玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).用于企業(yè)生產(chǎn)、科研或高校實(shí)驗(yàn)室等工藝。
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高溫?zé)o氧化烤箱，半導(dǎo)體制程烤箱用于pi、bcb膠高溫固化烘烤。整個(gè)箱體結(jié)構(gòu)分為：膛體組件、箱架組件和熱風(fēng)組件三個(gè)部分，膛體腔，內(nèi)表面全鏡面設(shè)計(jì)，風(fēng)道由左、右、后導(dǎo)風(fēng)板與箱體內(nèi)壁組合而成，膛體頂部有排風(fēng)管道。
更新時(shí)間:2025-06-12
hmds pretreatment system, hmds oven reducing the contact angle of the silicon wafer after hmds treatment the amount of photoresist to improve the adhesion of photoresist and silicon.
更新時(shí)間:2025-06-12
黑蒜是一種非常有益健康的產(chǎn)品，但不是每個(gè)人都有長(zhǎng)期食用的條件。為了滿足您的需求，我們提供適合家庭制作的家用迷你黑蒜機(jī)。
更新時(shí)間:2025-06-12
pi膠高溫固化烤箱，半導(dǎo)體pi固化爐用于pi高溫固化烘烤。廣泛應(yīng)用于微電子工業(yè)中的半導(dǎo)體器件表面的保護(hù)、密封、應(yīng)力緩沖保護(hù)和半導(dǎo)體器件表面鈍化、內(nèi)涂料、層間絕緣和介電薄膜材料以及液晶顯示器的液晶分子取向膜材料，對(duì)改善器件性能、提高器件可靠性，具有防潮、防金屬離子遷移、防污染，降低漏電流，同時(shí)對(duì)器件的引線、焊點(diǎn)等薄弱部位具有增固加強(qiáng)的作用。所以，pi的固化工藝非常重要。
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氣相成底膜烤箱，hmds蒸氣淀積系統(tǒng)用于除去硅片表面的污染物（顆粒、有機(jī)物、工藝殘余、可動(dòng)離子），除去水蒸氣，使基底表面由親水性變?yōu)樵魉裕鰪?qiáng)表面的黏附性（hmds-六甲基二硅胺烷）。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料
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pi固化用厭氧烘箱，聚酰亞胺固化爐應(yīng)用聚酰亞胺時(shí)需要注意的問題是厚度控制和亞胺化處理。
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芯片無氧烘箱，可編程無氧烤箱：在工作時(shí)，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧化烘箱在工業(yè)中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
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軟烘烤箱，硅片烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧烤箱主要用于：晶圓、硅片、玻璃等制程烘烤，ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
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silicon wafer hmds烤箱，hmds oven通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
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智能型hmds烘箱，全自動(dòng)hmds預(yù)處理系統(tǒng)預(yù)處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達(dá)4盒的晶片；更加節(jié)省藥液；低液報(bào)警、防藥液泄漏等具有很強(qiáng)的安全保護(hù)功能；，有可自動(dòng)吸取添加hmds功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。
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無氧烘箱，智能雙層無氧烘箱應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升溫環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、pcb板烘烤、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無氧化干燥烘烤工藝要求，
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全氟辛基三氯硅烷涂膠機(jī)，抗粘劑pfts真空烘箱主要用于納米壓印光刻（nil）應(yīng)用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠；以及功率半導(dǎo)體,led,mems,半導(dǎo)體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
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實(shí)驗(yàn)室電磁鐵小型u型臥式電磁場(chǎng)發(fā)生器 電磁鐵的工作氣隙調(diào)節(jié)輕便靈活，頭處設(shè)有螺紋，更換頭裝卸方便
更新時(shí)間:2025-06-12
錦正茂定制高真空腔體（箱體）真空配件組件真空腔體是保持內(nèi)部為真空狀態(tài)的容器，真空腔體的制作要考慮容積、材質(zhì)和形狀。
更新時(shí)間:2025-06-12
驗(yàn)室矢量多電磁鐵小型磁場(chǎng)發(fā)生器磁場(chǎng)實(shí)體積小、重量輕、占空比小、結(jié)構(gòu)緊湊、磁場(chǎng)性能更佳。
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美國(guó)f.w.bell高斯計(jì)/特斯拉計(jì)產(chǎn)品描述: 4100系列低頻磁場(chǎng) (elf) 高斯計(jì)是適合家用和商業(yè)使用的，易于使用的輕便式手持磁場(chǎng)測(cè)試設(shè)備。可以精對(duì)于需要在30k到500k之間對(duì)溫度進(jìn)行測(cè)量和控制的場(chǎng)合，pt100鉑電阻溫度計(jì)是一個(gè)好
更新時(shí)間:2025-06-12
美國(guó)meda5170高斯計(jì)產(chǎn)品概述：5100系列手持式高斯計(jì)替代了以的5000系列手持式高斯計(jì)。5100系列手持式高斯計(jì)是基于霍爾效應(yīng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度測(cè)量?jī)x表的新進(jìn)展，是目采用dsp設(shè)計(jì)的手持式高斯計(jì)。5100系列包括5170型和5180型兩款機(jī)型。大量程0-30kg，小基本誤差1%。特點(diǎn)包括自動(dòng)零點(diǎn)，自動(dòng)量程，大值/小值/大值保持，相對(duì)模式等。美國(guó)meda5170高斯計(jì)
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fcp磁場(chǎng)控制平臺(tái)產(chǎn)品概述：fcp磁場(chǎng)控制平臺(tái)是根據(jù)磁控原理設(shè)計(jì)的理想磁測(cè)量系統(tǒng)，磁場(chǎng)范圍超過3t，利用testik475高斯計(jì)穩(wěn)定磁場(chǎng)控制，適合各系列電磁鐵配置，連續(xù)可變的電磁氣隙，實(shí)心的和光學(xué)入口帽，線型雙，真實(shí)四象限電磁鐵電源。
更新時(shí)間:2025-06-12
磁光克爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)jmts-816產(chǎn)品概述：磁光克爾效應(yīng)裝置是一種基于磁光效應(yīng)原理設(shè)計(jì)的超高靈敏度磁強(qiáng)計(jì)，是研究磁性薄膜、磁性微結(jié)構(gòu)的理想測(cè)量工具。旋轉(zhuǎn)磁光克爾效應(yīng)（rotmoke）是在磁光克爾效應(yīng)測(cè)量基礎(chǔ)上的一種類似于轉(zhuǎn)矩測(cè)量各向異性的實(shí)驗(yàn)方法，可以定量的得到樣品的磁各向異性的值。但由于電磁鐵磁場(chǎng)大小的限制，只適合于測(cè)量磁各向異性的易軸在膜面內(nèi)而且矯頑場(chǎng)不太大的磁性薄膜材料。
更新時(shí)間:2025-06-12
矢量三維電磁鐵ly系列矢量三維電磁鐵是由北京錦正茂科技有限公司電磁鐵研發(fā)團(tuán)隊(duì)經(jīng)過業(yè)磁場(chǎng)仿真軟件，結(jié)構(gòu)優(yōu)化后而設(shè)計(jì)現(xiàn)出的一款矢量型電磁鐵，該電磁鐵采用兩對(duì)垂直正交的電磁鐵構(gòu)成平面內(nèi)的電磁鐵，在任意方向上都可以通過調(diào)節(jié)其電流大小，獲得任意矢量方向上的可控均勻磁場(chǎng)。
更新時(shí)間:2025-06-12
電輸運(yùn)性質(zhì)測(cè)量系統(tǒng)testik-9產(chǎn)品概述：testik-9系列電輸運(yùn)性質(zhì)測(cè)試系統(tǒng)是集霍爾效應(yīng)、磁阻、變溫電阻、i-v特性等測(cè)試于一體的全自動(dòng)化測(cè)試系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-06-12
高溫磁場(chǎng)退火爐：該高溫磁場(chǎng)加熱爐系統(tǒng)是由分子泵組中的機(jī)械泵（干泵）先對(duì)真空腔體（樣品腔）進(jìn)行粗抽，達(dá)到可以開啟分子泵的限真空時(shí)，在開啟分子泵進(jìn)行高真空的抽取，達(dá)到客戶所需的真空度。打開軟件，通過在軟件中輸入需要的磁場(chǎng)值和溫度值，通過閉循環(huán)反饋調(diào)節(jié)，使設(shè)備內(nèi)樣品的溫度自動(dòng)控制并穩(wěn)定在某一個(gè)溫度值，軟件可以按照用戶給定的實(shí)驗(yàn)條件完成實(shí)驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-12
二維亥姆霍茲線圈典型的單軸亥姆霍茲線圈是具有相同線圈匝數(shù)，相同線圈繞制方式，線圈半徑等于線圈間距的兩個(gè)線圈組成的。亥姆霍茲線圈一般用來產(chǎn)生*定體積比較大、均勻度比較高， 但磁場(chǎng)值比較弱的磁場(chǎng)。用戶可以利用這個(gè)磁場(chǎng)來完成各種實(shí)驗(yàn)，亥姆霍茲線圈可根據(jù)不同的應(yīng)用產(chǎn)生靜態(tài)dc或ac磁場(chǎng)。其主要用途有：地球磁場(chǎng)的抵消、判定磁
更新時(shí)間:2025-06-12
在進(jìn)行科學(xué)實(shí)驗(yàn)時(shí)，有時(shí)候會(huì)遇到正常類型的電磁鐵無法滿足使用需求，因此就需要定制各種形狀的電磁鐵，以滿足不同的實(shí)驗(yàn)需求。
更新時(shí)間:2025-06-12
真空夾層內(nèi)裝有低溫吸附劑，能增長(zhǎng)真空保持時(shí)間，延長(zhǎng)液氮使用時(shí)間。
更新時(shí)間:2025-06-12
主要用于低溫、真空環(huán)境下的磁學(xué)測(cè)量、光學(xué)測(cè)量、光電反應(yīng)、光反射、熒光和磁阻等試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-12
u形結(jié)構(gòu)、視野開闊、磁場(chǎng)強(qiáng)度高、磁場(chǎng)強(qiáng)度大小調(diào)節(jié)方便
更新時(shí)間:2025-06-12
可以進(jìn)行霍爾效應(yīng)、r-h特性、r-t特性和i-v特性的測(cè)量，可得出參數(shù)：方塊電阻、電阻率、霍爾系數(shù)、霍爾遷移率、載流子濃度和導(dǎo)電類型。
更新時(shí)間:2025-06-12
最新產(chǎn)品
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