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其它產(chǎn)品及廠家

HMDS涂膠系統(tǒng),HMDS涂膠烤箱
hmds涂膠系統(tǒng),hmds涂膠烤箱
更新時(shí)間:2025-06-12
晶圓烤箱,超潔凈烤箱
晶圓烤箱,超潔凈烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧烤箱主要用于:ic包裝,lcd,晶體管,傳感器,二極管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
更新時(shí)間:2025-06-12
HMDS烘箱,hmds預(yù)處理烘箱
hmds烘箱,hmds預(yù)處理烘箱將hmds涂到樣品表面后,經(jīng)烘箱加溫可生成硅氧烷為主的化合物,將樣品表面由親水性變?yōu)槭杷裕耸杷阅軌蚝芎玫呐c光刻膠結(jié)合,增加了樣品表面與光刻膠的粘附作用。
更新時(shí)間:2025-06-12
無氧烤箱,厭氧烘箱
無氧烤箱,厭氧烘箱廣泛用于航空、航天、石油、化工、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位做材料、零件、設(shè)備等的高溫潔凈和無氧干燥及老化試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-12
光刻工藝HMDS鍍膜機(jī),功率MOS器件HMDS鍍膜機(jī)
光刻工藝hmds鍍膜機(jī),功率mos器件hmds鍍膜機(jī)
更新時(shí)間:2025-06-12
無氧烘箱,智能雙層無氧烘箱的詳細(xì)說明書@技術(shù)發(fā)布
無氧烘箱,智能雙層無氧烘箱應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求,模擬線性升溫環(huán)境,特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、pcb板烘烤、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無氧化干燥烘烤工藝要求,
更新時(shí)間:2025-06-12
LED氣相成底膜處理系統(tǒng),氣相成底膜真空烘箱
led氣相成底膜處理系統(tǒng),氣相成底膜真空烘箱目前在led芯片制造中用hmds成膜處理一般是在一個(gè)集脫水烘焙和氣相成膜兩種作用的真空腔中進(jìn)行,這種方法可以實(shí)現(xiàn)批量處理。待處理晶片放在真空腔中的熱板上,用氮?dú)庾鳛檩d氣將hmds蒸氣通入腔室中,達(dá)到預(yù)先設(shè)定的壓力對(duì)晶片進(jìn)行成膜處理,完畢后將腔室中的氣體抽空,然后通氮?dú)獾匠骸s-hmds預(yù)處理系統(tǒng)對(duì)預(yù)處理過程的工作溫度、工作真空度、處理時(shí)間、處理時(shí)
更新時(shí)間:2025-06-12
抗粘劑蒸鍍機(jī),抗粘層鍍膜機(jī)的行業(yè)應(yīng)用@技術(shù)新聞
抗粘劑蒸鍍機(jī),抗粘層鍍膜機(jī)在基片與彈性支撐層之間還形成有抗黏層,抗黏層般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。
更新時(shí)間:2025-06-12
PCT高壓老化試驗(yàn)機(jī),半導(dǎo)體高壓加速老化試驗(yàn)箱
pct高壓老化試驗(yàn)機(jī),半導(dǎo)體高壓加速老化試驗(yàn)箱是利用加壓的飽和蒸汽對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行加速老化的設(shè)備,適用于電子,表面處理,磁性材料,ic,半導(dǎo)體,pcb,包裝材料等各個(gè)相關(guān)行業(yè)使用。
更新時(shí)間:2025-06-12
真空鍍膜機(jī),脫模劑烤箱
真空鍍膜機(jī),脫模劑烤箱應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、電子行業(yè),硅片、石英等納米壓印模板材料
更新時(shí)間:2025-06-12
全氟辛基三氯硅烷涂膠機(jī),抗粘劑PFTS真空烘箱
全氟辛基三氯硅烷涂膠機(jī),抗粘劑pfts真空烘箱主要用于納米壓印光刻(nil)應(yīng)用,防粘涂層的制備,可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠;以及功率半導(dǎo)體,led,mems,半導(dǎo)體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
更新時(shí)間:2025-06-12
勻膠機(jī),可程式勻膠機(jī)
勻膠機(jī),可程式勻膠機(jī)用于半導(dǎo)體硅片,載玻片,晶片,基片,ito導(dǎo)電玻璃等工藝,制版的表面涂覆。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動(dòng)迅速等優(yōu)點(diǎn),并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。
更新時(shí)間:2025-06-12
硅片HMDS涂布機(jī)臺(tái),4寸Wafer hmds烤箱
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻 的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥 基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì) 侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕 容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。
更新時(shí)間:2025-06-12
智能型無塵無氧烘箱、厭氧潔凈烘箱
智能型無塵無氧烘箱、厭氧潔凈烘箱應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb 膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、無塵烘干的特殊工藝要求,適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb 板、ito 玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).用于企業(yè)生產(chǎn)、科研或高校實(shí)驗(yàn)室等工藝。
更新時(shí)間:2025-06-12
高溫?zé)o氧化烤箱,半導(dǎo)體制程烤箱
高溫?zé)o氧化烤箱,半導(dǎo)體制程烤箱用于pi、bcb膠高溫固化烘烤。整個(gè)箱體結(jié)構(gòu)分為:膛體組件、箱架組件和熱風(fēng)組件三個(gè)部分,膛體腔,內(nèi)表面全鏡面設(shè)計(jì),風(fēng)道由左、右、后導(dǎo)風(fēng)板與箱體內(nèi)壁組合而成,膛體頂部有排風(fēng)管道。
更新時(shí)間:2025-06-12
HMDS pretreatment system, HMDS oven
hmds pretreatment system, hmds oven reducing the contact angle of the silicon wafer after hmds treatment the amount of photoresist to improve the adhesion of photoresist and silicon.
更新時(shí)間:2025-06-12
家用黑蒜機(jī),黑蒜發(fā)酵機(jī)家用
黑蒜是一種非常有益健康的產(chǎn)品,但不是每個(gè)人都有長(zhǎng)期食用的條件。為了滿足您的需求,我們提供適合家庭制作的家用迷你黑蒜機(jī)。
更新時(shí)間:2025-06-12
PI膠高溫固化烤箱,半導(dǎo)體PI固化爐
pi膠高溫固化烤箱,半導(dǎo)體pi固化爐用于pi高溫固化烘烤。廣泛應(yīng)用于微電子工業(yè)中的半導(dǎo)體器件表面的保護(hù)、密封、應(yīng)力緩沖保護(hù)和半導(dǎo)體器件表面鈍化、內(nèi)涂料、層間絕緣和介電薄膜材料以及液晶顯示器的液晶分子取向膜材料,對(duì)改善器件性能、提高器件可靠性,具有防潮、防金屬離子遷移、防污染,降低漏電流,同時(shí)對(duì)器件的引線、焊點(diǎn)等薄弱部位具有增固加強(qiáng)的作用。所以,pi的固化工藝非常重要。
更新時(shí)間:2025-06-12
氣相成底膜烤箱,HMDS蒸氣淀積系統(tǒng)
氣相成底膜烤箱,hmds蒸氣淀積系統(tǒng)用于除去硅片表面的污染物(顆粒、有機(jī)物、工藝殘余、可動(dòng)離子),除去水蒸氣,使基底表面由親水性變?yōu)樵魉裕鰪?qiáng)表面的黏附性(hmds-六甲基二硅胺烷)。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料
更新時(shí)間:2025-06-12
PI固化用厭氧烘箱,聚酰亞胺固化爐2023動(dòng)態(tài)已更新《新品/推薦》
pi固化用厭氧烘箱,聚酰亞胺固化爐應(yīng)用聚酰亞胺時(shí)需要注意的問題是厚度控制和亞胺化處理。
更新時(shí)間:2025-06-12
芯片無氧烘箱,可編程無氧烤箱:在工作時(shí),工作室內(nèi)充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧化烘箱在工業(yè)中的用途:ic包裝,lcd,晶體管,傳感器,二極管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板……
更新時(shí)間:2025-06-12
軟烘烤箱,硅片烤箱
軟烘烤箱,硅片烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧烤箱主要用于:晶圓、硅片、玻璃等制程烘烤,ic包裝,lcd,晶體管,傳感器,二極管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
更新時(shí)間:2025-06-12
silicon wafer HMDS烤箱,HMDS OVEN
silicon wafer hmds烤箱,hmds oven通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds,降低了hmds處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2025-06-12
智能型HMDS烘箱,全自動(dòng)HMDS預(yù)處理系統(tǒng)#2023價(jià)格已更新
智能型hmds烘箱,全自動(dòng)hmds預(yù)處理系統(tǒng)預(yù)處理性能更好,更加均勻;效率高,一次可以處理多達(dá)4盒的晶片;更加節(jié)省藥液;低液報(bào)警、防藥液泄漏等具有很強(qiáng)的安全保護(hù)功能;,有可自動(dòng)吸取添加hmds功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。
更新時(shí)間:2025-06-12
無氧烘箱,智能雙層無氧烘箱
無氧烘箱,智能雙層無氧烘箱應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求,模擬線性升溫環(huán)境,特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、pcb板烘烤、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無氧化干燥烘烤工藝要求,
更新時(shí)間:2025-06-12
全氟辛基三氯硅烷涂膠機(jī),抗粘劑PFTS真空烘箱的詳細(xì)說明書@技術(shù)發(fā)布
全氟辛基三氯硅烷涂膠機(jī),抗粘劑pfts真空烘箱主要用于納米壓印光刻(nil)應(yīng)用,防粘涂層的制備,可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠;以及功率半導(dǎo)體,led,mems,半導(dǎo)體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
更新時(shí)間:2025-06-12
實(shí)驗(yàn)室電磁鐵小型U型臥式電磁場(chǎng)發(fā)生器
實(shí)驗(yàn)室電磁鐵小型u型臥式電磁場(chǎng)發(fā)生器 電磁鐵的工作氣隙調(diào)節(jié)輕便靈活,頭處設(shè)有螺紋,更換頭裝卸方便
更新時(shí)間:2025-06-12
錦正茂定制高真空腔體(箱體)真空配件組件
錦正茂定制高真空腔體(箱體)真空配件組件真空腔體是保持內(nèi)部為真空狀態(tài)的容器,真空腔體的制作要考慮容積、材質(zhì)和形狀。
更新時(shí)間:2025-06-12
磁場(chǎng)實(shí)驗(yàn)室矢量多電磁鐵小型磁場(chǎng)發(fā)生器
驗(yàn)室矢量多電磁鐵小型磁場(chǎng)發(fā)生器磁場(chǎng)實(shí)體積小、重量輕、占空比小、結(jié)構(gòu)緊湊、磁場(chǎng)性能更佳。
更新時(shí)間:2025-06-12
美國(guó)F.W.BELL高斯計(jì)/特斯拉計(jì)
美國(guó)f.w.bell高斯計(jì)/特斯拉計(jì)產(chǎn)品描述: 4100系列低頻磁場(chǎng) (elf) 高斯計(jì)是適合家用和商業(yè)使用的,易于使用的輕便式手持磁場(chǎng)測(cè)試設(shè)備。可以精對(duì)于需要在30k到500k之間對(duì)溫度進(jìn)行測(cè)量和控制的場(chǎng)合,pt100鉑電阻溫度計(jì)是一個(gè)好
更新時(shí)間:2025-06-12
美國(guó)MEDA5170高斯計(jì)
美國(guó)meda5170高斯計(jì)產(chǎn)品概述:5100系列手持式高斯計(jì)替代了以的5000系列手持式高斯計(jì)。5100系列手持式高斯計(jì)是基于霍爾效應(yīng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度測(cè)量?jī)x表的新進(jìn)展,是目采用dsp設(shè)計(jì)的手持式高斯計(jì)。5100系列包括5170型和5180型兩款機(jī)型。大量程0-30kg,小基本誤差1%。特點(diǎn)包括自動(dòng)零點(diǎn),自動(dòng)量程,大值/小值/大值保持,相對(duì)模式等。美國(guó)meda5170高斯計(jì)
更新時(shí)間:2025-06-12
FCP磁場(chǎng)控制平臺(tái) 實(shí)驗(yàn)室磁場(chǎng)測(cè)量?jī)x器設(shè)備
fcp磁場(chǎng)控制平臺(tái)產(chǎn)品概述:fcp磁場(chǎng)控制平臺(tái)是根據(jù)磁控原理設(shè)計(jì)的理想磁測(cè)量系統(tǒng),磁場(chǎng)范圍超過3t,利用testik475高斯計(jì)穩(wěn)定磁場(chǎng)控制,適合各系列電磁鐵配置,連續(xù)可變的電磁氣隙,實(shí)心的和光學(xué)入口帽,線型雙,真實(shí)四象限電磁鐵電源。
更新時(shí)間:2025-06-12
磁光克爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)
磁光克爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)jmts-816產(chǎn)品概述:磁光克爾效應(yīng)裝置是一種基于磁光效應(yīng)原理設(shè)計(jì)的超高靈敏度磁強(qiáng)計(jì),是研究磁性薄膜、磁性微結(jié)構(gòu)的理想測(cè)量工具。旋轉(zhuǎn)磁光克爾效應(yīng)(rotmoke)是在磁光克爾效應(yīng)測(cè)量基礎(chǔ)上的一種類似于轉(zhuǎn)矩測(cè)量各向異性的實(shí)驗(yàn)方法,可以定量的得到樣品的磁各向異性的值。但由于電磁鐵磁場(chǎng)大小的限制,只適合于測(cè)量磁各向異性的易軸在膜面內(nèi)而且矯頑場(chǎng)不太大的磁性薄膜材料。
更新時(shí)間:2025-06-12
定制實(shí)驗(yàn)室矢量三維電磁鐵磁場(chǎng)裝置
矢量三維電磁鐵ly系列矢量三維電磁鐵是由北京錦正茂科技有限公司電磁鐵研發(fā)團(tuán)隊(duì)經(jīng)過業(yè)磁場(chǎng)仿真軟件,結(jié)構(gòu)優(yōu)化后而設(shè)計(jì)現(xiàn)出的一款矢量型電磁鐵,該電磁鐵采用兩對(duì)垂直正交的電磁鐵構(gòu)成平面內(nèi)的電磁鐵,在任意方向上都可以通過調(diào)節(jié)其電流大小,獲得任意矢量方向上的可控均勻磁場(chǎng)。
更新時(shí)間:2025-06-12
電輸運(yùn)性質(zhì)測(cè)量系統(tǒng)
電輸運(yùn)性質(zhì)測(cè)量系統(tǒng)testik-9產(chǎn)品概述:testik-9系列電輸運(yùn)性質(zhì)測(cè)試系統(tǒng)是集霍爾效應(yīng)、磁阻、變溫電阻、i-v特性等測(cè)試于一體的全自動(dòng)化測(cè)試系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-06-12
高溫磁場(chǎng)退火爐
高溫磁場(chǎng)退火爐:該高溫磁場(chǎng)加熱爐系統(tǒng)是由分子泵組中的機(jī)械泵(干泵)先對(duì)真空腔體(樣品腔)進(jìn)行粗抽,達(dá)到可以開啟分子泵的限真空時(shí),在開啟分子泵進(jìn)行高真空的抽取,達(dá)到客戶所需的真空度。打開軟件,通過在軟件中輸入需要的磁場(chǎng)值和溫度值,通過閉循環(huán)反饋調(diào)節(jié),使設(shè)備內(nèi)樣品的溫度自動(dòng)控制并穩(wěn)定在某一個(gè)溫度值,軟件可以按照用戶給定的實(shí)驗(yàn)條件完成實(shí)驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-12
二維亥姆霍茲線圈實(shí)驗(yàn)室電磁線圈
二維亥姆霍茲線圈典型的單軸亥姆霍茲線圈是具有相同線圈匝數(shù),相同線圈繞制方式,線圈半徑等于線圈間距的兩個(gè)線圈組成的。亥姆霍茲線圈一般用來產(chǎn)生*定體積比較大、均勻度比較高, 但磁場(chǎng)值比較弱的磁場(chǎng)。用戶可以利用這個(gè)磁場(chǎng)來完成各種實(shí)驗(yàn),亥姆霍茲線圈可根據(jù)不同的應(yīng)用產(chǎn)生靜態(tài)dc或ac磁場(chǎng)。其主要用途有:地球磁場(chǎng)的抵消、判定磁
更新時(shí)間:2025-06-12
定制大學(xué)實(shí)驗(yàn)室異型電磁鐵產(chǎn)生面內(nèi)磁場(chǎng)
在進(jìn)行科學(xué)實(shí)驗(yàn)時(shí),有時(shí)候會(huì)遇到正常類型的電磁鐵無法滿足使用需求,因此就需要定制各種形狀的電磁鐵,以滿足不同的實(shí)驗(yàn)需求。
更新時(shí)間:2025-06-12
定制電學(xué)低溫恒溫控制器液氮液氦降溫
使用液氦作為低溫媒介時(shí),低溫可以低至4k,使用液氮作為媒介時(shí),低溫可以低至 78k
更新時(shí)間:2025-06-12
定制實(shí)驗(yàn)室連續(xù)流低溫恒溫控制器液氮液氮降溫
適合冷卻形狀不規(guī)則和低熱傳導(dǎo)率的樣品
更新時(shí)間:2025-06-12
定制實(shí)驗(yàn)室光學(xué)低溫恒溫控制器液氮液氦降溫
真空夾層內(nèi)裝有低溫吸附劑,能增長(zhǎng)真空保持時(shí)間,延長(zhǎng)液氮使用時(shí)間。
更新時(shí)間:2025-06-12
4K閉循環(huán)低溫恒溫器光學(xué)電磁學(xué)測(cè)量可變溫實(shí)驗(yàn)平臺(tái)
主要用于低溫、真空環(huán)境下的磁學(xué)測(cè)量、光學(xué)測(cè)量、光電反應(yīng)、光反射、熒光和磁阻等試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-12
實(shí)驗(yàn)室電磁鐵EM系列電磁場(chǎng)發(fā)生器U形結(jié)構(gòu)
u形結(jié)構(gòu)、視野開闊、磁場(chǎng)強(qiáng)度高、磁場(chǎng)強(qiáng)度大小調(diào)節(jié)方便
更新時(shí)間:2025-06-12
實(shí)驗(yàn)室材料電阻霍爾效應(yīng)電輸運(yùn)性質(zhì)研究?jī)x器
可以進(jìn)行霍爾效應(yīng)、r-h特性、r-t特性和i-v特性的測(cè)量,可得出參數(shù):方塊電阻、電阻率、霍爾系數(shù)、霍爾遷移率、載流子濃度和導(dǎo)電類型。
更新時(shí)間:2025-06-12
定制實(shí)驗(yàn)電磁鐵U型小型電磁場(chǎng)發(fā)生裝置磁性研究
u形結(jié)構(gòu)、視野開闊、磁場(chǎng)強(qiáng)度高、磁場(chǎng)強(qiáng)度大小調(diào)節(jié)方便。
更新時(shí)間:2025-06-12
實(shí)驗(yàn)用磁場(chǎng)強(qiáng)度測(cè)試儀磁性材料基本磁性能測(cè)試
錦正茂磁場(chǎng)強(qiáng)度測(cè)試儀可原位測(cè)量磁性材料從液氮溫區(qū)至室溫或室溫至500℃溫區(qū)的磁性能隨溫度的變化曲線。
更新時(shí)間:2025-06-12
定制亥姆霍茲線圈三維方形圓形磁場(chǎng)線圈
錦正茂科技有限公司擁有自己的磁場(chǎng)開發(fā)團(tuán)隊(duì),在亥姆霍茲線圈的設(shè)計(jì)方面具有豐富的經(jīng)驗(yàn),生產(chǎn)的亥姆霍茲線圈的質(zhì)量和穩(wěn)定性具有其它廠家無法比﹡的優(yōu)越性。
更新時(shí)間:2025-06-12
磁光克爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)材料磁學(xué)研究?jī)x器
廣泛應(yīng)用于諸如磁性納米技術(shù)、自旋電子學(xué)、磁性薄膜、磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器、gmr/tmr等磁學(xué)域。
更新時(shí)間:2025-06-12
美國(guó)F.W.Bell貝爾5170 高斯計(jì)特斯拉計(jì)
5100系列包括5170型和5180型兩款機(jī)型。*大量程0-30kg,*小基本誤差1%。特點(diǎn)包括自動(dòng)零點(diǎn),自動(dòng)量程,大值/小值/*大值保持,相對(duì)模式等。
更新時(shí)間:2025-06-12

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