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AP200/300 投影步進式光刻機

ap200/300 系列光刻系統基于 veeco 的可定制 unity 平臺™構建，可提供卓越的覆蓋層、分辨率和側壁輪廓性能，并可實現高度自動化和具有成本效益的制造。這些系統特別適用于銅柱、扇出、硅通孔（tsv）和硅中介層應用。此外，該平臺還具有許多特定于應用的產品功能，可實現下一代封裝技術，例如增強的翹曲晶圓處理、雙面對準和光學聚焦

更新時間:2025-03-05

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DSC300投影掃描光刻機

suss microtec公司推出了其下一代投影掃描光刻機‐dsc300投影掃描光刻機。這種有的掃描光刻平臺擁有三位數的產能，并達到解析度（< 2 μm）的分辨率，是1x投影光刻系統中生產成本較為低的。

更新時間:2025-03-05

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MA300 Gen3 掩模對準光刻機

ma300 gen3 掩模對準器用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動化掩模對準平臺suss microtec 的 ma300 gen3 是一款高度自動化的掩模對準平臺，適用于 300 毫米和 200 毫米晶圓。它為 3d 封裝、晶圓封裝和倒裝芯片應用而設計，但也可用于必須暴露 4 微米和 100 微米幾何形狀范圍的其他技術。

更新時間:2025-03-05

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VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機

vpg 800 / vpg 1400 有掩膜光刻機為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。vpg1400是我們為顯示行業設計的大的系統。它是平板顯示器（fpd）應用的好的選擇，例如 tft 陣列、彩色濾光片和 ito。這些工具還用于先進封裝、半導體、led 和觸摸屏應用的工業大面積光掩模應用。

更新時間:2025-03-05

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VPG 200 / VPG 400 有掩膜光刻機

vpg 200 / vpg 400 體積圖形發生器是光刻系統，為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設計。它們支持所有標準的中小型面罩尺寸，大尺寸為 410 x 410 mm++2.應用包括

更新時間:2025-03-05

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織雀™PL-3D Premium 高精密微3D光刻機

織雀™pl-3d premium 是托托科技自主研發的高精密微3d光刻設備，高光學分辨率可達1μm，支持大50 mm×50 mm×50 mm的加工尺寸，設備還支持對準套刻功能，可在已有結構表面進行多材料的駁接打印，在復雜三維微納結構、高深寬比微納結構以及復合材料三維微納結構制造方面具有突出的潛能和優勢。

更新時間:2025-03-05

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