其它產品及廠家
無氧烘箱，智能雙層無氧烘箱應用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升溫環境，特別適合半導體制造、cob封裝、pcb板烘烤、醫療衛生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業的無氧化干燥烘烤工藝要求，
更新時間:2025-06-12
led氣相成底膜處理系統，氣相成底膜真空烘箱目前在led芯片制造中用hmds成膜處理一般是在一個集脫水烘焙和氣相成膜兩種作用的真空腔中進行,這種方法可以實現批量處理。待處理晶片放在真空腔中的熱板上,用氮氣作為載氣將hmds蒸氣通入腔室中,達到預先設定的壓力對晶片進行成膜處理,完畢后將腔室中的氣體抽空,然后通氮氣到常壓。js-hmds預處理系統對預處理過程的工作溫度、工作真空度、處理時間、處理時
更新時間:2025-06-12
pct高壓老化試驗機，半導體高壓加速老化試驗箱是利用加壓的飽和蒸汽對產品進行加速老化的設備，適用于電子，表面處理，磁性材料，ic，半導體，pcb，包裝材料等各個相關行業使用。
更新時間:2025-06-12
全氟辛基三氯硅烷涂膠機，抗粘劑pfts真空烘箱主要用于納米壓印光刻（nil）應用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠；以及功率半導體,led,mems,半導體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
更新時間:2025-06-12
勻膠機，可程式勻膠機用于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ito導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。該產品具有轉速穩定和啟動迅速等優點，并能保證半導體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。
更新時間:2025-06-12
在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻 的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥 基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會 侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕 容易發生側向腐蝕。
更新時間:2025-06-12
智能型無塵無氧烘箱、厭氧潔凈烘箱應用于精密電子元件、pi、bcb 膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb 板、ito 玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.用于企業生產、科研或高校實驗室等工藝。
更新時間:2025-06-12
高溫無氧化烤箱，半導體制程烤箱用于pi、bcb膠高溫固化烘烤。整個箱體結構分為：膛體組件、箱架組件和熱風組件三個部分，膛體腔，內表面全鏡面設計，風道由左、右、后導風板與箱體內壁組合而成，膛體頂部有排風管道。
更新時間:2025-06-12
hmds pretreatment system, hmds oven reducing the contact angle of the silicon wafer after hmds treatment the amount of photoresist to improve the adhesion of photoresist and silicon.
更新時間:2025-06-12
pi膠高溫固化烤箱，半導體pi固化爐用于pi高溫固化烘烤。廣泛應用于微電子工業中的半導體器件表面的保護、密封、應力緩沖保護和半導體器件表面鈍化、內涂料、層間絕緣和介電薄膜材料以及液晶顯示器的液晶分子取向膜材料，對改善器件性能、提高器件可靠性，具有防潮、防金屬離子遷移、防污染，降低漏電流，同時對器件的引線、焊點等薄弱部位具有增固加強的作用。所以，pi的固化工藝非常重要。
更新時間:2025-06-12
氣相成底膜烤箱，hmds蒸氣淀積系統用于除去硅片表面的污染物（顆粒、有機物、工藝殘余、可動離子），除去水蒸氣，使基底表面由親水性變為憎水性，增強表面的黏附性（hmds-六甲基二硅胺烷）。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料
更新時間:2025-06-12
芯片無氧烘箱，可編程無氧烤箱：在工作時，工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時間:2025-06-12
軟烘烤箱，硅片烤箱工作室內充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧烤箱主要用于：晶圓、硅片、玻璃等制程烘烤，ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫療衛生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
更新時間:2025-06-12
silicon wafer hmds烤箱，hmds oven通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-06-12
智能型hmds烘箱，全自動hmds預處理系統預處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達4盒的晶片；更加節省藥液；低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能；，有可自動吸取添加hmds功能，智能型的程式設定，一鍵完成作業。
更新時間:2025-06-12
無氧烘箱，智能雙層無氧烘箱應用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升溫環境，特別適合半導體制造、cob封裝、pcb板烘烤、醫療衛生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業的無氧化干燥烘烤工藝要求，
更新時間:2025-06-12
全氟辛基三氯硅烷涂膠機，抗粘劑pfts真空烘箱主要用于納米壓印光刻（nil）應用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠；以及功率半導體,led,mems,半導體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
更新時間:2025-06-12
美國f.w.bell高斯計/特斯拉計產品描述: 4100系列低頻磁場 (elf) 高斯計是適合家用和商業使用的，易于使用的輕便式手持磁場測試設備。可以精對于需要在30k到500k之間對溫度進行測量和控制的場合，pt100鉑電阻溫度計是一個好
更新時間:2025-06-12
美國meda5170高斯計產品概述：5100系列手持式高斯計替代了以的5000系列手持式高斯計。5100系列手持式高斯計是基于霍爾效應的磁場強度測量儀表的新進展，是目采用dsp設計的手持式高斯計。5100系列包括5170型和5180型兩款機型。大量程0-30kg，小基本誤差1%。特點包括自動零點，自動量程，大值/小值/大值保持，相對模式等。美國meda5170高斯計
更新時間:2025-06-12
fcp磁場控制平臺產品概述：fcp磁場控制平臺是根據磁控原理設計的理想磁測量系統，磁場范圍超過3t，利用testik475高斯計穩定磁場控制，適合各系列電磁鐵配置，連續可變的電磁氣隙，實心的和光學入口帽，線型雙，真實四象限電磁鐵電源。
更新時間:2025-06-12
磁光克爾效應測量系統jmts-816產品概述：磁光克爾效應裝置是一種基于磁光效應原理設計的超高靈敏度磁強計，是研究磁性薄膜、磁性微結構的理想測量工具。旋轉磁光克爾效應（rotmoke）是在磁光克爾效應測量基礎上的一種類似于轉矩測量各向異性的實驗方法，可以定量的得到樣品的磁各向異性的值。但由于電磁鐵磁場大小的限制，只適合于測量磁各向異性的易軸在膜面內而且矯頑場不太大的磁性薄膜材料。
更新時間:2025-06-12
矢量三維電磁鐵ly系列矢量三維電磁鐵是由北京錦正茂科技有限公司電磁鐵研發團隊經過業磁場仿真軟件，結構優化后而設計現出的一款矢量型電磁鐵，該電磁鐵采用兩對垂直正交的電磁鐵構成平面內的電磁鐵，在任意方向上都可以通過調節其電流大小，獲得任意矢量方向上的可控均勻磁場。
更新時間:2025-06-12
電輸運性質測量系統testik-9產品概述：testik-9系列電輸運性質測試系統是集霍爾效應、磁阻、變溫電阻、i-v特性等測試于一體的全自動化測試系統。
更新時間:2025-06-12
高溫磁場退火爐：該高溫磁場加熱爐系統是由分子泵組中的機械泵（干泵）先對真空腔體（樣品腔）進行粗抽，達到可以開啟分子泵的限真空時，在開啟分子泵進行高真空的抽取，達到客戶所需的真空度。打開軟件，通過在軟件中輸入需要的磁場值和溫度值，通過閉循環反饋調節，使設備內樣品的溫度自動控制并穩定在某一個溫度值，軟件可以按照用戶給定的實驗條件完成實驗。
更新時間:2025-06-12
二維亥姆霍茲線圈典型的單軸亥姆霍茲線圈是具有相同線圈匝數，相同線圈繞制方式，線圈半徑等于線圈間距的兩個線圈組成的。亥姆霍茲線圈一般用來產生*定體積比較大、均勻度比較高， 但磁場值比較弱的磁場。用戶可以利用這個磁場來完成各種實驗，亥姆霍茲線圈可根據不同的應用產生靜態dc或ac磁場。其主要用途有：地球磁場的抵消、判定磁
更新時間:2025-06-12
可以進行霍爾效應、r-h特性、r-t特性和i-v特性的測量，可得出參數：方塊電阻、電阻率、霍爾系數、霍爾遷移率、載流子濃度和導電類型。
更新時間:2025-06-12
錦正茂科技有限公司擁有自己的磁場開發團隊，在亥姆霍茲線圈的設計方面具有豐富的經驗，生產的亥姆霍茲線圈的質量和穩定性具有其它廠家無法比﹡的優越性。
更新時間:2025-06-12
5100系列包括5170型和5180型兩款機型。*大量程0-30kg，*小基本誤差1%。特點包括自動零點，自動量程，大值/小值/*大值保持，相對模式等。
更新時間:2025-06-12
變溫范圍為4k-325k時，使用硅二管溫度傳感器，變溫范圍80k-325k時，使用有著良好穩性和重復性的 pt100 鉑電阻，放在磁場中，使用cernoxtm磁場不敏感溫度計。
更新時間:2025-06-12
錦正茂的液氮恒溫器在氧化物界面處的二維電子體系（2des）做為一個獨特的平臺，將典型復合氧化物、強電子相關的低溫物理特性以及由2des有限厚度引起的量子限域集成于一體。
更新時間:2025-06-12
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