大氣顆粒物采樣器產品及廠家
全新一代axiachemisem掃描電鏡，采用獨特方法進行樣品成分信息的采集、處理和展示；依托先進鏡筒技術，保持系統始終處于最佳狀態，可聚焦樣品采集數據，隨時提供高質量圖像；采用全開門式設計，耐用性和靈活性更高；可搭載多款掃描電鏡軟件實現多種自動化功能；簡約化設計，全方面性能出色，可表征各種不同類型材料，提供最全面的信息。其成像平臺即時可用，集成獨特的實時定量能譜面分析功能，成像即刻并融合成分信息，專為快速分析而設計，操作輕松自如。
更新時間:2025-06-13
該臺式可見光分光光度計具有直觀的彩色觸摸屏操作界面，并可直接在屏幕上顯示哈希程序的操作提示。加上直觀的量程柱狀圖顯示，比色皿的自動識別和錯誤報警，以及新增的aqa功能等人性化設計都能為您帶來全新的使用體驗，減少了再次確認的額外工作，讓客戶對測試結果更有信心。dr3900臺式可見光分光光度計是市場上唯一既能夠涵蓋監管要求鏈、又能與在線儀器之間很好地關聯起來。可廣泛應用于工業，市政，環保，教育等領域
更新時間:2025-06-13
nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(lsc)系統，用于最先進的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到最優化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。
更新時間:2025-06-13
nte-4000（m）熱蒸發系統概述：nano-masternte-4000是一款pc計算機控制的臺式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備的設計經過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。
更新時間:2025-06-13
npe-3500pecvd等離子體化學氣相沉積系統概述：nano-masterpecvd系統能夠沉積高質量的sio2,si3n4,或dlc薄膜到最大可達12”直徑的基片上.該系統采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子，具有分形氣流分布的優勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產生偏壓。
更新時間:2025-06-13
plasmacleaner等離子清洗機npc-4000（m）等離子清洗機概述：nano-master等離子刻蝕和清洗系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。np
更新時間:2025-06-13
rie反應離子刻蝕機nre-3500（a）全自動rie反應離子刻蝕機概述：獨立式rie反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷rf樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2"的視窗,另一個空置用于診斷.該系統可以支持最大到12"的晶圓片。
更新時間:2025-06-13
picomasterxf500-h是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫設備，它具有每毫米超過1200條線的輸出能力，特別適合用戶在光敏層上自由地創造微結構。獨有的全息設計軟件，提供了許多預先安裝的全息效果及其光柵、結構的運算方法，它們可以很輕松地將把這些效果組合起來，十分利于用戶的產品開發。同時軟件也允許用戶添加自己的算法和結構，來定制數據庫、完善產品設計。
更新時間:2025-06-13
picomaster200無掩模激光直寫光刻機●250納米分辨率（375納米激光源）●300納米分辨率（405納米激光源）●4095灰階●業界最具實力的成套全息設計軟件●最大230x230毫米基板尺寸picomaster200是一款具有超高精度組件的多功能紫外激光寫入器，專為用戶提供在感光層中創建最高自由度的微結構而設計。
更新時間:2025-06-13
dymax5000-ec系列紫外光固化面光源適用于固化光強需求高、固化速度高的紫外光膠粘劑、涂層和油墨。
更新時間:2025-06-13
品牌：恩科優（n&q）型號：nxq800-6產地：美國恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，n&q8000系列光刻機是以自動系統為主。該系統優越的操作性，超高的分辨率，均勻的光學系統，現代先進的接近式和接觸式光刻及超高的性價比，使恩科優光刻系統已經被全國各地眾多著名企業、研發中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統的首選。
更新時間:2025-06-13
品牌：恩科優（n&q）型號：nxq400-8產地：美國恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，n&q4000系列光刻機是以半自動系統為主。該系統優越的操作性，超高的分辨率，均勻的光學系統，現代先進的接近式和接觸式光刻及超高的性價比，使恩科優光刻系統已經被全國各地眾多著名企業、研發中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統的首選。
更新時間:2025-06-13
真空快速退火爐as-oneas-one是一種通用的rtp系統，可用于開發快速熱退火和快速熱cvd工藝。可以搭配分子泵實現高真空下熱處理工藝。最高溫度1500℃，最快升溫速率200℃/second。
更新時間:2025-06-13
紫外臭氧清洗工作原理：清洗設備的核心是低壓石英汞燈，產生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產生，有機污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發或分解。激發的有機污染物可以和等離子氧原子反應形成氣體，比如co2,h2o等。整個過程在室溫**發生，并且只需要1到幾分鐘完成。
更新時間:2025-06-13
原子層沉積（atomiclayerdeposition)是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的，這種方式使每次反應只沉積一層原子。
更新時間:2025-06-13
適用于3英寸晶圓的劃片劃片機100是一款獨特的設備，設計用于劃分精密模具，例如gaas和硅芯片。劃片機100非常靈活，使用劃線和斷裂順序，使成品模具保持清潔，不受損壞。
更新時間:2025-06-13
m-hp200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑最大為8英寸的晶圓片或最大6英寸x6英寸的襯底。內置模塊可輕松用于濕式工作臺。工藝參數（溫度，加熱時間）可以隨時更改。熱板溫度可在20c和250c之間調節。可在1到999秒之間設置處理時間。
更新時間:2025-06-13
勻膠顯影機(英文名：developing)產地：美國一、產品概述：650型勻膠顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。
更新時間:2025-06-13
benchtopplasmacleaner小型等離子清洗系統pdc32g和pdc002hpc系列小型等離子清洗系統是臺式等離子處理設備領域當之無愧的主導者，我們專為實驗室研發提供性價比高的小型等離子清洗設備，已經有30多年的豐富經驗。harrick等離子體表面處理儀的應用范圍：*清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。*清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
更新時間:2025-06-13
涂是一種廣泛使用的多功能技術，用于將材料沉積到基材上，從而獲得精確可控的薄膜厚度。該款勻膠旋涂儀價格實惠，操作簡單，結構小巧緊湊，占地空間小，為實驗室提供了理想的解決方案。該款勻膠旋涂儀采用創新專利設計的托盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果；內置調整水平裝置，最大限度的保證旋涂均勻；可對大小不同規格的基片進行旋涂。
更新時間:2025-06-13
勻膠機產品特點:1、穩定的轉速和快速啟動，可保證膠厚度的一致性和均勻性；2、轉速在12000轉/分范圍內穩定，美國國家標準技術研究院（nist）認證過；3、采用plc控制，速度可調節，在啟動之后一般工藝先以低速運轉使膠攤開，然后自動變到高速運轉，步驟轉速及相應的時間分別可調；4、數據模擬：勻膠實驗時將一組設定的涂膠速度和時長數值輸入系統，系統會據此計算出速度設定方案。
更新時間:2025-06-13
m-spin200勻膠旋涂儀是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂儀適用于直徑最大為8英寸的晶圓片，或為6英寸x6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動工作，分配移動托盤，可定義數量。該勻膠旋涂儀配備了頂蓋的聯鎖機制，和可視化全圖形觸摸面板。m-spin200勻膠旋涂儀包含一個內置模塊，該模塊連接到柔性電纜，外接到一個19英寸外部控件上。
更新時間:2025-06-13
basixxst20+（?200毫米）臺式旋涂機，帶電動介質臂basixxst20（?200毫米）臺式旋涂機basixxst20+實驗室臺式勻膠機是一款緊湊的旋涂，顯影，清潔和干燥半自動系統，旨在為科學和研究領域的用戶提供高效，安全和清潔的實驗室系統。
更新時間:2025-06-13
新升級的美國alliedmultiprep高精密研磨系統，采用7寸lcd觸摸屏完成所有操作，研磨系統精度能夠達到1um，適用于高精密（金相，sem，tem，afm等）樣品的前處理multiprep?系統適用于高精密（金相，sem，tem，afm等）樣品的半自動準備加工。
更新時間:2025-06-13
激光開封技術也可以在不破壞芯片或者電路的整體功能的前提下，去除局部的塑封材料，進行測試甚至修復實驗。與化學開封技術相比，激光開封更加高效，同時避免了減少強酸環境暴露。基本原理：芯片激光開封機的工作原理是利用高能激光蝕刻掉芯片或者電子元器件的塑封外殼，從而光學觀測或者電氣性能測試提供了可能性，以便于實現x射線等無損檢測無法實現的功能。
更新時間:2025-06-13
波誘導式等離子芯片開封系統----plasmaetch無論是傳統的金線樣品，還是樣品都采用銅線或銀線，plasmaetch都能提供安全可靠的蝕刻。
更新時間:2025-06-13
bls-i/bct-400少子壽命測試儀●非接觸方式量測真正意義上的硅塊少子壽命●渦電流法量測技術符合semi最新的pv13標準●相比業界其他少子壽命測試儀bls-i/bct系列是性能更優越的少子壽命測試儀●wafer廠品質監控必不可缺的量測設備，擁有廣泛的客戶群。
更新時間:2025-06-13
1、設備組成以及主要功能少子壽命測試儀wct-120包括如下部分：1）帶有渦電流感應器的樣品臺，2）帶有紅外濾光片的程控閃光燈光源系統，3）內置wct-120軟件以及ni采集卡的電腦一套，4）用于信號傳輸的信號盒，5）程控的電源供應器fps-300，5）連接各個硬件的連接線等suns-voc包括如下部分：1）放置樣品的測量臺，2）帶有中性濾光片的程控閃光燈。
更新時間:2025-06-13
菲希爾（fischer）的載荷漸進式劃痕儀st200可以用于分析薄膜及涂層材料的結合力和附著力等特性，例如厚度在1μm以上的pvd、cvd、pecvd薄膜、感光薄膜、彩繪釉漆、光學薄膜、微電子鍍膜、保護性薄膜、裝飾性涂層等材料表面的附著力、斷裂及形變分析，基體可以為軟質或硬質材料，包括金屬、合金、橡膠、半導體、玻璃、礦物、陶瓷以及有機材料等。
更新時間:2025-06-13
hysitronpi89掃描電鏡聯用納米壓痕儀利用掃描電子顯微鏡（sem、fib/sem）的卓越成像能力，可以在成像的同時進行定量納米力學測試。這套全新系統搭載bruker的電容傳感技術，繼承了引領市場的一批商業化原位sem納米力學平臺的優良功能。該系統可實現包括納米壓痕、拉伸、微柱壓縮、微球壓縮、懸臂彎曲、斷裂、疲勞、動態測試和力學性能成像等功能。特點獨有的可互換傳感技術，實現了更
更新時間:2025-06-13
高溫超納米壓痕測試儀(unht3htv)全球第一臺真正意義的商品化的高溫高真空超納米壓痕儀，主要測量小載荷下納米尺度機械性能的測試系統，溫度在800c以下的薄膜和涂層的硬度和彈性模量。
更新時間:2025-06-13
主要特點：適用于薄膜等生產線上，實現各個環節的雙折射測量live實時輸出雙折射的信息ok/ng可以在執行live監測的同時對異常點發出警報操作簡單，可以調整色彩顯示更直觀的了解雙折射分布實時記錄雙折射的數值數據，以進行進一步詳細分析。可以通過在系統中增加偏光感應器來擴展測量的寬度。
更新時間:2025-06-13
貝克曼庫爾特公司于1989年推出商品化的毛細管電泳儀之后，不斷在儀器的硬件、軟件、化學試劑盒、應用和技術支持等方面開發統領全球毛細管電泳（ce）技術新潮流，已擁有全球最多種類的毛細管電泳系統、最大的生產基地和最多的客戶群體。
更新時間:2025-06-13
系列高效毛細管電泳儀是一種快速、簡便的分析儀器，可應用于多個行業，進行定性和定量分析。成熟的儀器、優化的配置、大量的應用方法包集一體，被用戶稱為目前性價比較優的毛細管電泳儀。
更新時間:2025-06-13
核磁共振(nmr)適用于生命科學和材料研究應用的核磁共振（nmr）解決方案與分析儀核磁共振波譜儀可用于研究分子結構、各種分子、動力學或分子動力學之間的相互作用、生物混合物的組成或合成解決方案或復合材料。活性分子大小各異——從小型有機分子或代謝物到中型肽或天然產品，直到分子重量達數十kda的蛋白質。核磁共振（nmr）與其他結構和分析技術相輔相成，例如x射線、結晶學和質譜分析法。核磁共
更新時間:2025-06-13
avanceneo代表非常成功的avance系列產品線中的新一代產品，這一系列產品確立了布魯克在全球nmr技術及市場的領導地位。雖然上一代avanceiiihd架構已經提供了尖端的nmr性能，但avanceneo將此性能進一步提升。它具有更快的控制、改進的動態范圍以及更大的靈活性和可擴展性。avanceneo基于“收發器”原則，這意味著每個nmr通道同時
更新時間:2025-06-13
快速退火爐(rtp/rta)是半導體材料和器件常用的一款工藝設備。快速退火爐可以在真空、惰性氣氛、不同的工藝氣體環境下使用。
更新時間:2025-06-13
mila-5000系列桌面型快速退火爐mila-5000系列加熱爐體使用紅外金面退火爐，可以進行快速升降溫，潔凈加熱。
更新時間:2025-06-13
技術參數：·光譜范圍：190-2100nm·8種光斑尺寸:小35x85um·探測器：3個獨立探測器，分別優化紫外，可見和近紅外·自動樣品臺尺寸：200mmx200mm；xyz方向自動調節;z軸高度>35mm·樣品水平度自動調整·自動量角器：變角范圍35°-90°，全自動調整，
更新時間:2025-06-13
流式、多參數細胞/組織/類器官代謝分析儀德國cellasys提供的灌流式、多參數細胞/組織/類器官代謝分析儀-imola，是一種基于生物芯片的微生理參數測量系統，對活細胞/組織/類器官的代謝和形態進行無標記實時監測，搭配自動化灌流系統進行換液或者加藥，可以實現幾天或幾周的連續測量，研究藥物對活細胞/組織/類器官的影響以及移除藥物后的恢復和再生效應。
更新時間:2025-06-13
picopipet單細胞分離提取系統可以方便高效的分離獲取懸液中單個細胞。產品概述：picopipet單細胞分離提取系統主要由picopipet超微量吸液器和電動控制器、compass顯微鏡、joystick顯微操縱器三大部分組成。picopipet系統也可搭載在各種顯微鏡上，如倒置顯微鏡、體式顯微鏡等。
更新時間:2025-06-13
日立ds3000緊湊型基因分析儀上世紀90年代初，三大科學計劃之一的“人類基因組計劃”啟動，并于2001年完成了人類基因組草圖，而這一偉大工程，正是基于“sanger法”的dna測序技術。
更新時間:2025-06-13
genomelabgexp遺傳分析系統能夠為您提供分子生物學完整的解決方案。除了多重基因表達定量外，它還能夠進行測序和片段分析。最難能可貴的是，所有這些應用，都能集中在同一塊板上一次性完成。產品特色高通量多重基因表達分析genomelabgexp能夠在每個反應孔內同時分析2-40個基因；每天最多可以分析7680個基因。
更新時間:2025-06-13
pr系列蛋白穩定性分析儀——精確表征蛋白穩定性的新黃金標準pr系列儀器可精確測定蛋白的變性溫度(tm和tonset)、變性劑濃度(cm)、折疊自由能(δg和δδg)以及蛋白形成聚集的起始溫度(tagg)，使您可以信心滿滿地為下游的每一個環節做出正確的決定。
更新時間:2025-06-13
脂乳蛋白分析儀lumiflector是一款功能強大的光譜儀式分析儀，基于mrstechnology?（多反射光譜）技術原理，進行質量和過程控制。這種創新的專利技術是實驗室版本和生產線上版本儀器的核心。可以量化多種產品的參數-無需樣品制備，無需化學品。應用領域包括食品、飼料、醫藥、生物技術產品和醫學營養學。
更新時間:2025-06-13
ez2connect支持高達24個樣本同時純化，配合內置加熱模塊和移液模塊，無需手工操作繁雜的預處理步驟即可實現完全自動化核酸純化。ez2connect靈活支持3種不同樣本支架管，無論是2mlep管或螺旋蓋立管甚至是5ml樣本管皆可自動完成上樣，實現多至8ml樣本的純化。
更新時間:2025-06-13
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