大氣顆粒物采樣器產品及廠家
客戶提供三個系列的超聲波清洗器eco系列：*有3l，6l，10l，15l，22l五個型號可選*內外全不銹鋼機構，配有托盤，客戶可以直接將待洗部件放入清洗*數字式定時器。
更新時間:2025-06-13
由savillex公司出品的vcultra酸蒸汽清洗系統（vcultra）為進行微波消解樣品制備的實驗室提供了一種安全，高效，操作便捷的微波消解容器清洗方案。vcultra由超凈氟聚合物制成。
更新時間:2025-06-13
凈的樣品處理容器是獲得可靠分析結果的提。痕量分析所使用的微波消解罐、常壓消解罐、玻璃器皿（試管、燒杯、容量瓶等）等的痕量清洗，對于實驗室人員來說，始終是一個非常繁瑣而又非常重要的挑戰。美國amerlab艾默萊ac200系列酸蒸超凈清洗器（酸逆流清洗器），很好地解決了這個問題。中空導汽管和頂層清洗架更業的清洗能力微波消解管清洗架超微波管清洗架特點：?清洗架采用雙層結構，下層清洗消解管，可選
更新時間:2025-06-13
psd-uv系列psd系列產品是數字控制的臺式清洗設備，可以提供44英寸至1216英寸的清洗尺寸。設備配備一個帶反射罩的高強度uv格柵燈盤,和可調節高度的樣品臺，用于優化樣品位置和清洗效果。
更新時間:2025-06-13
lasermbelasermbe特點模塊化概念，lasermbe可以輕松升級到中央傳輸模塊或其他模塊uhvpld主腔室、利用load-lock實現襯底和靶材的uhv傳輸先進的工藝自動化功能，可實現超晶格生長溫度測量準確的耐氧襯底加熱器，最高1000℃，也可以選配激光加熱靶臺可以屏蔽交叉污染，傳輸整個carrousel而非單個靶材真空腔室利于系統升級。
更新時間:2025-06-13
點：?耐酸堿保護膠?不含光敏物質，無需黃光室?在40%koh或50%hf酸中可長時間穩定?通過雙層工藝可實現正性(ar-p3250)或負性(ar-n4400-05/10)光刻工藝旋涂曲線。
更新時間:2025-06-13
特點：?用于高靈敏度電子束曝光、混合曝光等?感光波段：e-beam、deepuv(248nm)?紫外曝光波段：負膠：248nm~265nm&290nm~330nm?化學放大膠，高靈敏度?良好的耐干法刻蝕能力。
更新時間:2025-06-13
特點：?用于耐刻蝕工藝、電鍍、liga、mems等?感光波段：broadbanduv、i-line(365nm)g-line(436nm)、e-beam、x-ray、synchrotron?涂膠厚度從幾微米到上百微米不等?覆蓋能力強，分辨率高，圖形邊緣結構陡直?化學放大膠，具有非常高的靈敏度?可得到undercut結構，用于lift-off工藝?可替代su8膠。
更新時間:2025-06-13
特點：?用于消除電子束曝光、sem成像、fib等工藝中的荷電效應?通過旋涂的方式涂膠，操作簡單?涂膠厚度：40nm@4000rpm?電子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不損傷襯底材料?對紫外光、電子束不敏感，無需黃光室5090.02，適于pmma、csar62、hsq等。
更新時間:2025-06-13
特點：?紫外負膠（厚膠），適用于liga及mems應用?涂膠厚度10μm@1000rpm，可提供更高厚度（200μm）?sxar-n4600-10:結構穩定性好、重復性好，厚度可達幾百微米，適用于永久保留膠體結構的應用?sxar-n4650-10:容易去膠，適合于電鑄工藝
更新時間:2025-06-13
刻膠（resist）概述光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料，是轉移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應用于集成電路(ic)，封裝(packaging)，微機電系統(mems)，光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics)，平板顯示器(led,lcd,oled)，太陽能
更新時間:2025-06-13
pda-8000是島津公司2010年推出的最新一款光電發射光譜儀，集合了島津光電發射光譜儀之精華，突出了高靈敏度、高穩定性的特點，尤其在高純有色金屬、鋼鐵中酸溶鋁、夾雜物方面的分析有著獨特的技術。性能特點：1）高分辨率分光器最新設計的1米光柵分光室，可以有效減少元素間的分光干擾。
更新時間:2025-06-13
島津/kratos公司的axissupra+作為高端光電子能譜儀傳承了上一代產品高度智能化的優點，將采譜、成像功能與自動化高度相融合，保證了高樣品吞吐量和易用性，為用戶提供了全新無人值守自動化體驗。同時axissupra+對產品硬件進行了相應的改進和擴展，一方面能夠為用戶提供儀器更優異的性能，另一方面也為用戶提供了可選的多種拓展技術。
更新時間:2025-06-13
津高分辨率原子力顯微鏡spm-8100fm使用調頻模式，極大提高了信號的靈敏度，是第一款可以在大氣環境下獲得與真空環境中同樣超高分辨率表面觀察圖像的產品，無論樣品種類（薄膜、晶體、半導體、有機材料），還是不同環境（大氣環境及溶液環境）。并且首次觀察到固體和液體臨界面（固液界面）的水化、溶劑化現象的圖像，因此實現了對固液界面結構的測量分析。
更新時間:2025-06-13
setsysevolution同步熱分析儀sta是setaram熱分析的旗艦產品！系統高度模塊化，可擴展性極強，滿足各種苛刻條件下的測試需要，如：100%腐蝕性氣氛，氧化/還原性氣氛，及水蒸氣氣氛工作條件。系統采用獨特的上天平、懸掛式載樣設計，單一石墨爐體全程快速升溫，裝配專業熱分析光電天平，傳感器采用即插即用式接口，加熱爐配備水冷系統。
更新時間:2025-06-13
tg-dta可搭載樣品觀察型電爐，在通過顯微相機觀察升溫過程中樣品變化的同時，可進行高達1,000℃的測量。
更新時間:2025-06-13
電子束蒸發系統是化合物半導體器件制作中的一種重要工藝技術；它是在高真空狀態下由電子束加熱坩堝中的金屬，使其熔融后蒸發到所需基片上形成金屬膜。
更新時間:2025-06-13
leicaemace600是優良的多用途高真空薄膜沉積系統，設計來根據您的fe-sem和tem應用的需要生產非常薄的，細粒度的和導電的金屬和碳涂層，用于高分辨率分析。
更新時間:2025-06-13
適合不同電子顯微鏡極靴類型的的eds細管徑設計和優化的eds，幾何構型確保了最優的信號采集角和檢出角全面的k、l、m和n線系原子數據庫，完美匹配低電壓分析可定制無窗探測器進一步提高低能端的檢測性能強大的混合脈沖處理器，可輸出計數率為600kcps易用而強大的esprit軟件。
更新時間:2025-06-13
固體分析分光光度計專家u-4100，實現了進一步的技術提高,uh4150問世！現在，uh4150型分光光度計已經面世，秉承了u-4100的高度可靠性。u-4100已累計發售1,500*1多臺。特點切換檢測器波長時會產生小的信號差異,即使這樣uh4150也可實現高精度的測定。安裝在積分球上的多個檢測器可在紫外-可見-近紅外的波長范圍內進行測定。
更新時間:2025-06-13
thermoscientificnicoletis5傅立葉變換紅外光譜儀性能優異，適合于產品可靠性測試、質量控制、材料鑒定等分析工作。
更新時間:2025-06-13
thermoscientificnicoletis50配有專業化的附件和集成的分析軟件，能夠提供一個真正一體化的材料分析平臺,幫助實驗室工作人員以前所未有的輕松方式來應對在分析領域所遇到的挑戰。
更新時間:2025-06-13
vertex70v光譜儀采用rocksolid?永久準直高性能干涉儀，能滿足從常規分析測量到高端科研領域的各種應用需求。采用ultrascan?真正準直專利干涉儀的vertex80和vertex80v是針對業內最前沿的科研應用設計的，它具備極高的光譜分辨率、能實現目前業內最高水平的快速掃描和步進掃描測量，能在最廣的光譜范圍內提供卓越的性能。vertex70v及vert
更新時間:2025-06-13
歐羅拉致力于為各種研究領域的科學家提供自動化液體處理系統，包括：醫藥、生物技術、農業、食品科學和法醫。versa系列作為液體處理系統，可以提高處理效率和數據質量，降低重復煩瑣工作帶來的不穩定性和減少試劑成本。
更新時間:2025-06-13
技術參數：1.光度計：高光通量的單光束/雙光束自動切換技術；2.單色器：czemyturner單色器，1800條刻線/mm；3.燈座：全自動8燈座，自動準直；4.背景校正：電子調諧氘空心陰極燈和三磁場塞曼效應雙扣背景；5.磁場強度:0.1-1.0t可調，可在2-磁場塞曼和3-磁場塞曼模式間切換；6.石墨爐：橫向加熱石墨爐，室溫-3000度控溫，加熱速度最高3000度/秒；7.
更新時間:2025-06-13
spectrumtwo系統適合于各種各樣的應用。spectrumtwo具有完全一體化且可靠的通用采樣功能，輕松進行測量并提供便攜選配件，是適用于實驗室和現場測試環境的理想儀器。perkinelmer擁有超過65年的光譜儀行業經驗，我們將這些專業知識濃縮在一臺儀器上，幫助您快速確保材料質量。
更新時間:2025-06-13
thermoscientificnicoletis5傅立葉變換紅外光譜儀性能優異，適合于產品可靠性測試、質量控制、材料鑒定等分析工作。
更新時間:2025-06-13
r&d100金獎產品，在儀器設計和性能各個方面都有非常出色的表現。做為新一代工業在線級傅立葉變換近紅外光譜分析儀，該儀器采用了多項先進技術，滿足各種工業現場要求：rocksolid干涉儀，bruker的專利技術；digitect技術，檢測器為數字檢測器，bruker的專利技術；多用途光纖探頭滿足各種工業環境；強大的遠程數據交換系統，能與工業控制系統或其它外圍計算機進行數據交換。
更新時間:2025-06-13
洋光學oceanhdxraman是款專門為785nm拉曼應用而設計的微型光纖光譜儀，可覆蓋150cm-1-3400cm-1的測景范圍。
更新時間:2025-06-13
hr4000cg復合光柵光譜儀采用專利光柵技術并使用濾光片消除二三級衍射的影響，從而達到200-1100nm波長范圍和0.75nm光學分辨率(fwhm)。hr4000cg光譜儀采用預配置設計-所有的光學平臺選件都為您預先選定。
更新時間:2025-06-13
便攜式近紅外光譜儀flame-nir光纖光譜儀是海洋光學較小的近紅外光譜儀。結合帶有新型非冷卻ingaas探測器的小尺寸flame光具座，flame-nir光譜儀在近紅外光譜方面開拓了一個全新的領域。由于無需tec冷卻，flame-nir的功耗需求超低，使得它非常適合整合到手持式系統和便攜系統。flame-nir具有flame系列產品的所有優勢，包括可互換狹縫和低的臺間差。flame-nir光
更新時間:2025-06-13
如果您應用nir光譜在研究，診斷或過程控制中的話，海洋光學nirquest近紅外光纖光譜儀將是一個低成本，方便的選擇，可取代ft-ir或同類技術的系統。nirquest光譜儀采用高性能的光學平臺，具有較低的電子噪聲和多個光柵的選擇。
更新時間:2025-06-13
在可見光至近紅外波段，地表物體自身的熱輻射幾乎為零。地物發出的波譜主要以反射太陽輻射為主。地物光譜測量是依據地球表面物體對可見光和近紅外光的反射特性對物體做定性或定量分析的方法。用于測量、采集、分析地表物體在野外自然條件下的反射率的光譜儀器我們稱之為地物光譜儀。海洋光學現推出fs1100手持式地物光纖光譜儀,專用于地表特征反射光譜的測量。可實現快速、準確、無損且非接觸式光譜測量。
更新時間:2025-06-13
mpaii是布魯克光譜部門集近40年設計和生產ftir和ft-nir光譜儀經驗的結晶，該儀器具有強大的擴展靈活性和優越的性能，為ft-nir分析儀器樹立了新的標準。其高性能的附件和靈活的操作性，成為實驗室和過程分析開發各種方法不可缺少的強有力工具，能夠最大程度的滿足不同用戶科研和生產qa/qc的需求。采用模塊化設計，可以針對每個分析任務進行單獨配置。卓越的擴展性能在有特定
更新時間:2025-06-13
用于沉積納米級薄膜、納米粉末包覆、長深孔樣品鍍膜;具有thermal-ald、peald、particle-ald和生產型ald;具備近100種膜層工藝。應用領域：芯片封裝、半導體high-k介電層、納米涂層、3d涂層、鋰電池、催化劑、太陽能電池、5g通訊（saw器件）、生物醫學仿生、熒光材料、oled顯示、有機材料、電子電路、光學膜等。
更新時間:2025-06-13
美國creativedesignengineering,簡稱“cde”，成立于1995年，位于美國加州硅谷的庫比蒂諾-cupertino,cde公司專注于四探針設備的生產和銷售，累計銷量達1000臺以上，遍布世界各大半導體fab,太陽能光伏企業，大學及科研機構，“cde”是四探針領域的領導品牌。
更新時間:2025-06-13
美國fourdimensions,inc,簡稱“4d”，成立于1978年，位于美國加州硅谷的hayward,4d公司專注于四探針設備和cv儀的生產和銷售，累計銷量達800臺以上，遍布世界各大半導體fab,太陽能光伏企業，大學及科研機構。
更新時間:2025-06-13
nsc-3000（a）全自動磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉平臺，最大可支持到3個偏軸平面磁控管。
更新時間:2025-06-13
激光分子束外延(lasermbe)是上個世紀90年代發展起來的一種新型高精密制膜技術，它集pld的制膜特點和傳統mbe的超高真空精確控制原子尺度外延生長的原位實時監控為一體，除保持了pld方法制備的膜系寬，還可以生長通常的半導體超晶格材料，特別適合生長多元素、高熔點、復雜層狀結構的薄膜，如超導體、光學晶體、鐵電體、壓電體、鐵磁體以及有機高分子等。
更新時間:2025-06-13
基質輔助脈沖激光蒸發(maple)是pld的一種變體。這是由nrl集團新引入的技術，以促進某些功能有機材料的薄膜沉積。基于uv(5-6ev)的傳統pld技術中，光化學反應可能會惡化有機分子、聚合物等的功能。而在maple中，通過將待沉積的有機物(或聚合物)與吸收激光波長的溶劑(基質)混合來制備特殊的靶。除了光學吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質的先決條件。
更新時間:2025-06-13
1.ald(傳統的熱原子層沉積)；2.peald(等離子增強原子層沉積)；3.powderald(粉末樣品的原子層沉積)；儀器簡介：原子層沉積（atomiclayerdeposition，ald），也稱為原子層外延（atomiclayerepitaxy，ale），或原子層化學氣相沉積（atomiclayerchemicalvapordeposition。
更新時間:2025-06-13
nld-3500（a）全自動原子層沉積系統概述：原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術，具有廣泛的應用。ald原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ald原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ald原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統計的沉積。這使得ald原子層沉積膜保持高度的光滑、連續以及無孔的特性，可以提供卓越的薄膜性能。
更新時間:2025-06-13
sal-3000ald原子層沉積系統sal3000是一款適用于研究型的ald原子層沉積設備，該設備最多可搭載6路前驅體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。
更新時間:2025-06-13
picosun擁有30多年在芬蘭ald反應器制造而得到的專業技術。tuomosuntola博士，于1974年發明了ald技術，是picosun董事會的成員。我們的首席技術官svenlindfors從1975年開始連續的設計ald系統。綜合起來講，picosun擁有了200多年的ald經驗并貢獻了100多項ald專利。我們悠久的歷史和廣泛的背景使picosun成為ald技術優質的合作伙伴。技術參
更新時間:2025-06-13
系統中的pecvd可以沉積高質量sio2薄膜、si3n4薄膜、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜等。標準配置射頻(rf)，可選用空陰極高密度等離子體(hcd)源、感應耦合等離子體（icp）源。
更新時間:2025-06-13
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